000 00472nam a2200121 4500
050 _aCD T56.42 MR5 O7 2013
082 _aCD 658.568 O7r
100 _aOrozco Bastida, Araceli
245 _aReducción del defecto tombstone en el producto WXCU / Araceli Orozco Bastida
300 _ap g. varia / 23 cm.
502 _aMemoria de residencia profesional. Opción x. I.T. Z. (Industrial) Ing. Monica Campos Álvarez
650 _a1. SEIS SIGMA-METODOLOGÍA / 2. DEFECTO TOMBSTONE
999 _c27781
_d27781